The thermionic vacuum arc (TVA) is a new technique for the deposition of thin metallic and nonmetallic films. TVA discharge is established in vacuum between a heated cathode (a tungsten filament) and an anode (a tungsten crucible filled with Al2O3 pellets). TVA discharges in Al2O3 vapors were generated and thin Al2O3 films were deposited on the glass substrates using TVA. The surfaces of thin Al2O3 films were examined using a Metallurgical Optical Microscope (MOM) and Scanning Electron Microscope (SEM). Al2O3 thin films have been analyzed using X-ray diffraction (XRD) method.

Termiyonik Vakum Ark (TVA), ince metal ve metal olmayan filmlerin depolanması için yeni bir tekniktir. TVA deşarj, vakum içinde ısıtılmış bir katot (tungsten flament) ve anot (Al2O3 parçacıkları ile dolu tungsten pota) arasında meydana gelir. Al2O3 buharlarında TVA deşarjlar üretildi ve ince Al2O3 filmleri cam tabanlar üzerine TVA kullanılarak depolanıldı. İnce Al2O3 filmlerin yüzeyleri Metalurjik Optik Mikroskop (MOM) ve Taramalı Elektron Mikroskobu ile analiz edildi. Al2O3 ince filmleri X-ışını difraksiyon metodu ile incelenildi.